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Proceedings Paper

Innovative concept for implementing particle free EUVL masks by novel dual ion beam sputter deposition systems
Author(s): Amer Tarraf; Matthias Nestler; Hans-Ulrich Poll; Sybille Martin; Dietmar Roth; Jens Dienelt; Horst Neumann; Eva Schubert; Bernd Rauschenbach; Mirko Schulze; Vadim Daneker; Sören Irmer; Friedhard Römer; Hartmut H. Hillmer
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Date Published:
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Proc. SPIE 5853, Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII, ; doi: 10.1117/12.617480
Show Author Affiliations
Amer Tarraf, Roth und Rau AG (Germany)
Matthias Nestler, Roth und Rau AG (Germany)
Hans-Ulrich Poll, Roth und Rau AG (Germany)
Sybille Martin, Roth und Rau AG (Germany)
Dietmar Roth, Roth und Rau AG (Germany)
Jens Dienelt, Leibniz-Institut für Troposphärenforschung e.V. (Germany)
Horst Neumann, Leibniz-Institut für Troposphärenforschung e.V. (Germany)
Eva Schubert, Leibniz-Institut für Troposphärenforschung e.V. (Germany)
Bernd Rauschenbach, Leibniz-Institut für Troposphärenforschung e.V. (Germany)
Mirko Schulze, AIS Automation Dresden GmbH (Germany)
Vadim Daneker, Univ. Kassel (Germany)
Sören Irmer, Univ. Kassel (Germany)
Friedhard Römer, Univ. Kassel (Germany)
Hartmut H. Hillmer, Univ. Kassel (Germany)


Published in SPIE Proceedings Vol. 5853:
Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII
Masanori Komuro, Editor(s)

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