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Proceedings Paper

High-accuracy EUV metrology of PTB using synchrotron radiation
Author(s): Frank Scholze; Burkhard Beckhoff; G. Brandt; R. Fliegauf; Alexander Gottwald; Roman Klein; Bernd Meyer; U. D. Schwarz; R. Thornagel; Johannes Tuemmler; Klaus Vogel; J. Weser; Gerhard Ulm
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PDF $14.40 $18.00

Paper Details

Date Published: 22 August 2001
PDF: 12 pages
Proc. SPIE 4344, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XV, (22 August 2001); doi: 10.1117/12.436766
Show Author Affiliations
Frank Scholze, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Burkhard Beckhoff, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
G. Brandt, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
R. Fliegauf, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Alexander Gottwald, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Roman Klein, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Bernd Meyer, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
U. D. Schwarz, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
R. Thornagel, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Johannes Tuemmler, Physikalisch Technische Bundesanstalt (Germany)
Klaus Vogel, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
J. Weser, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Gerhard Ulm, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)


Published in SPIE Proceedings Vol. 4344:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XV
Neal T. Sullivan, Editor(s)

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