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Proceedings Paper

Improvements of traceability and tool matching in scatterometry
Author(s): Bernd Bodermann; Bernd Löchel; Frank Scholze; Hermann A. Gross; Jan Wernecke; Johannes Endres; Jürgen Probst; Lars K. Nielsen; Matthias Wurm; Mark-Alexander Henn; Max Schoengen; Michael Krumrey; Morten H. Madsen; Nitish Kumar; H. Paul Urbach; Peter Petrik; Petr Klapetek; Poul-Eric Hansen; Sebastian Heidenreich; Sven Burger; Victor Soltwisch
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PDF $14.40 $18.00

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Date Published:
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Proc. SPIE 9424, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXIX, 94240W; doi: 10.1117/12.2086099
Show Author Affiliations
Bernd Bodermann, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Bernd Löchel, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH (Germany)
Frank Scholze, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Hermann A. Gross, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Jan Wernecke, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Johannes Endres, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Jürgen Probst, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH (Germany)
Lars K. Nielsen, Danish Fundamental Metrology Institut (Denmark)
Matthias Wurm, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Mark-Alexander Henn, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
National Institute of Standards and Technology (United States)
Max Schoengen, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Michael Krumrey, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Morten H. Madsen, Dansk Fundamental Metrologi (Denmark)
Nitish Kumar, Technische Univ. Delft (Netherlands)
ASML Netherlands B.V. (Netherlands)
H. Paul Urbach, Technische Univ. Delft (Netherlands)
Peter Petrik, Technische Univ. Delft (Netherlands)
Hungarian Academy of Sciences (Hungary)
Petr Klapetek, Czech Metrology Institute (Czech Republic)
Poul-Eric Hansen, Danish Fundamental Metrology Institut (Denmark)
Sebastian Heidenreich, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)
Sven Burger, JCMwave GmbH (Germany)
Victor Soltwisch, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Germany)


Published in SPIE Proceedings Vol. 9424:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXIX
Jason P. Cain; Martha I. Sanchez, Editor(s)

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